深刻体会线性电机对EUV光刻的重要性。大家熟知的虚拟现实（VR）、自动驾驶、物联网等技术，都有赖于光刻技术的发展。好的光刻，带来了好的芯片。突破新的芯片制造工艺，是现在很多芯片制造企业的心头大事，虽然突破已经愈加艰难，但以台积电为代表的业内领xian企业，并没有因此而放缓研发的步伐，其 3nm 工艺的开发进展顺利。

据线性电机小编了解，由于台积电的 N5 工艺使用了 14 层 EUV，因此 N3 使用的层数可能会更高。作为全qiu较大的半导体合约制造商，其似乎对 EUV 的进展感到非常满意，并认为该技术对其未来的发展至关重要。

EUV光刻全称为Extreme Ultraviolet Lithography，是一种极紫外线光刻工艺。芯片制造商通过EUV光刻技术，能够持续生产更小、更快、更强大的芯片，同时还能有效控制成本。所以，为什么企业都看好它。但要提到它的设备，还有一点不得不提就是线性电机。

因为光刻机的工件台在扫描曝光过程中要求纳米级的定位精度,采用长行程线性电机粗动加洛仑兹电机高精密微动补偿的6自由度复合运动系统能满足要求。为减小微动电机的运动范围和加速度, 一种开闭环D型迭代学习控制律还提高了线性电机的轨迹跟踪精度，这些技术的结合为光刻机带来了巨大的好处。可以说线性电机对光刻机是非常重要。

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